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刘伟

  • 研究方向: 电磁屏蔽,石墨烯,仿真模拟,趋肤深度,磁控溅射
  • 学科领域:一般工业技术,植物保护
  • 所属二级机构:附小
  • 成果数量:3条, 属于本单位的个人成果3
 作为第一研究人  年份
(2011-2025)
年份: --
对当前研究学者的研究方向进行分析
刘伟 对磁控溅射的研究情况分析
  • 发文篇数: 1 (被引量:0)
    中文核心期刊(北大):1 篇 CA化学文摘(美):1
  • 共现方向: 磁控溅射、 石墨烯、 趋肤深度、 仿真模拟、 电磁屏蔽
  • 学科领域: 工业技术
  • 合作作者: 周必成、 贾琨、 王东红、 沈腊珍
  • 发文期刊: 《复合材料学报》
发文趋势
挖掘当前学者研究方向的相关学者、机构、方向、刊种
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